Установка магнетронного напыления

Возможности установки:

• производительность установки: 30000 шт./год;
• режим работы 2 смены;
• покрытие толщиной до 5 мкм с предельными отклонениями ± 0,4 мкм, беспористое, сплошное (места не укрытые не допускаются), равной толщины на всей длине поверхности изделия.

Установка предназначена для нанесения никелевого покрытия на изделия методом магнетронного распыления в среде инертных газов. Предельная температура нагрева изделия при нанесении покрытия 150-200°С.

Установка оборудована планетарной системой вращения изделий для обеспечения получения равномерного покрытия.

Установка укомплектована системой очистки от случайных загрязнений (система активации) и системой ионного травления изделий.

Система ионного травления обеспечивает эффективное ионное травление поверхности цилиндрических объектов (труб) из стали 02Х18Н40М5Г2ТФРЮ-ИД (ЧС-116 ИД) и съём с поверхности указанных выше объектов слоя 5 мкм в час.

Предельная температура нагрева объектов (труб) при ионном травлении 750°С.

Рабочая атмосфера установки – инертный газ (аргон, гелий).

Установка магнетронного напыления